CHINA Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. Company News

Hoje em dia cada vez mais as indústrias precisam de usar gás ultra-altos da pureza, e muitas empresas começaram a pesquisar e para fabricar as válvulas usadas para regular gás da alto-pureza, tão há uma válvula de controle da pressão. Os materiais usados nesta válvula de regulamento são de alta qualidade, incluindo os encaixes do diafragma feitos de Hastelloy e o corpo de válvula inteiro feito de 316L de aço inoxidável. Os testes contínuos conduziram a um regulador de pressão com encaixes do VCR para o desempenho de selagem apertado, o controle de pressão preciso, o controle de fluxo preciso, exigências ultra-altas da pureza, resistência de corrosão, confiança e estabilidade. Hoje em dia, a escala da aplicação de reguladores de pressão da ultra-alto-pureza é igualmente bastante larga, e seus mercados da aplicação são como segue Indústria do semicondutor: A indústria do semicondutor tem exigências muito restritas para gás ultra-altos da pureza, e os reguladores de pressão ultra-altos da pureza jogam um papel chave no processo de manufatura do semicondutor. São usados para controlar e regular a pressão dos gás da alto-pureza (tais como o nitrogênio, o hidrogênio, o argônio, etc.) usados na fabricação do semicondutor para assegurar condições de processo estáveis e a qualidade ótima da produção.   Indústria fotovoltaico: Na indústria (solar) fotovoltaico, os reguladores de pressão ultra-altos da pureza são usados para controlar e regular a pressão dos gás usados no processo de manufatura. Por exemplo, na fabricação de células solares, onde os gás são usados para limpar e tratar superfícies, os reguladores de pressão de UHP asseguram-se de que uma fonte constante dos gás esteja fornecida assim como controle de pressão apropriado. Fármacos e ciências da vida: A procura para gás ultra-altos da pureza é igualmente alta nos setores farmacêuticos e das ciências da vida. Os reguladores de pressão de UHP são usados em processos farmacêuticos para controlar e regular a pressão dos gás assegurar a segurança e a estabilidade do processo farmacêutico. Além, são usados no equipamento de laboratório e para fins de investigação.   Laboratório e pesquisa científica: Os reguladores de pressão de UHP são amplamente utilizados nos laboratórios e na pesquisa científica controlar e regular a pressão dos gás. Se está em um laboratório de química, em uma pesquisa da física ou em uma ciência de materiais, os reguladores de pressão de UHP são uma parte de equipamento chave em assegurar a precisão e confiança de processos experimentais e da pesquisa.   Os reguladores de pressão da pureza ultra alta são usados na indústria do semicondutor em uma proporção significativa de muitos mercados da aplicação. Porque o processo de manufatura do semicondutor tem exigências muito restritas para gás da pureza alta, os reguladores de pressão ultra-altos da pureza jogam um papel vital na indústria do semicondutor. No processo de manufatura do semicondutor, os reguladores de pressão da ultra-alto-pureza são usados para controlar e regular a pressão dos gás da alto-pureza (por exemplo, nitrogênio, hidrogênio, argônio, etc.) assegurar condições de processo estáveis e a qualidade ótima da produção. Há diversas razões pelas quais os reguladores de pressão ultra-altos da pureza compõem a parcela a maior da indústria do semicondutor: Exigências do gás da pureza alta: O processo de manufatura do semicondutor exige a pureza extremamente alta dos gás usados. As impurezas ou os contaminadores minúsculos podem ter um impacto sério no desempenho e a confiança de dispositivos de semicondutor. os reguladores de pressão Ultra-altos da pureza fornecem um abastecimento de gás da pureza alta, assegurando-se de que a pureza do gás não esteja afetada pela contaminação ou pelas impurezas.   Exigências da estabilidade e da consistência do processo: A fabricação do semicondutor é um processo altamente exato e estável onde o controle preciso da pressão de gás seja crítico. os reguladores de pressão da Ultrahigh-pureza fornecem a saída de pressão estável e o ajuste preciso da pressão de gás assegurar a consistência e o controle de parâmetros de processo do semicondutor.   Resposta rápida e controle altamente exato: Determinadas etapas no processo de manufatura do semicondutor exigem ajustes rápidos da pressão de gás em um curto período de tempo, ao ao mesmo tempo exigir o controle altamente exato. os reguladores de pressão da Ultrahigh-pureza cumprem estas exigências especiais com controle rápido da resposta e da elevada precisão.   Confiança e segurança: A indústria do semicondutor exige os níveis os mais altos de confiança e de segurança do equipamento e dos sistemas. os reguladores de pressão da Ultrahigh-pureza são fabricados tipicamente com materiais de alta qualidade e processos de manufatura avançados, fornecendo a confiança e a segurança excelentes para cumprir as exigências estritas da indústria do semicondutor.   Em resumo, os reguladores de pressão ultra-altos da pureza são amplamente utilizados na indústria do semicondutor, encontrar principalmente a procura para gás da alto-pureza, fornecer controle de processos estável, assegurar a precisão alta e a resposta rápida, e fornecer exigências altas da confiança e de segurança. Estas características fazem a reguladores de pressão ultra-altos da pureza um dispositivo chave indispensável no processo de manufatura do semicondutor. O preço de mercado de hoje do regulador de pressão da ultra-alto-pureza é muito diferente do alto e baixo, da qualidade de bom e de mau, e da necessidade para este produto, algum cuidado sobre o preço, algum cuidado sobre a qualidade, mas a maioria do interesse é ainda qualidade e preço. Nosso tipo é AFKLOK própria fábrica, o produto igualmente fez muitos testes obteve finalmente bons resultados, assim no preço assim como na qualidade que nós temos uma vantagem, nós pode substituir os outros tipos, o futuro nós igualmente obteremos melhores e melhores.

Diferença entre caudais do alto e baixo de reguladores do gás da pureza alta: Os reguladores altos do fluxo são projetados tipicamente segurar uns caudais mais altos do gás, geralmente nos litros pelo minuto (L/MIN) ou em medidores cúbicos pela hora (³ de m /h). Ao contrário, os baixos reguladores do fluxo são apropriados para umas mais baixas escalas do fluxo do gás, geralmente nos mililitros pelo minuto (mL/min) ou os litros pela hora (L/H). Projeto de válvulas do regulador de pressão para gás ultra-altos da pureza: Projeto da válvula: Os reguladores altos do fluxo usam tipicamente válvulas e passagens maiores a fim segurar fluxos maiores do gás. Estas válvulas podem exigir os pistões maiores, os diafragmas, ou os outros elementos de controle fluido conseguir o regulamento preciso do fluxo. Os baixos reguladores do fluxo, por outro lado, usam válvulas e passagens menores para acomodar umas mais baixas exigências do fluxo.   Amplitude da pressão de reguladores de pressão ultra-altos do gás da pureza: Os reguladores do fluxo têm tipicamente uma amplitude da pressão mais larga e podem segurar umas pressões mais altas da entrada e abaixadores altos a umas pressões mais a rendimento baixo. Os baixos reguladores do fluxo podem ter uma amplitude da pressão relativamente estreita para umas mais baixas pressões da entrada e conseguir uma amplitude da pressão menor da saída.   Dimensões externos de reguladores de pressão do gás da Ultrahigh-pureza: Porque os reguladores altos do fluxo são exigidos para segurar fluxos maiores do gás, têm tipicamente dimensões externos maiores e uns pesos mais pesados para acomodar a maior dinâmica de fluidos. Ao contrário, os reguladores pequenos do fluxo podem ser mais compactos e de pouco peso para aplicações espaço-forçadas ou móveis.   Áreas do pedido para reguladores de pressão do gás da ultra-alto-pureza: Os reguladores altos do fluxo são de uso geral nas aplicações que exigem um caudal alto do abastecimento de gás, tal como o equipamento de laboratório controle de processos e grande industrial. Os baixos reguladores do fluxo são usados nas aplicações que exigem uns mais baixos caudais e um controle mais preciso, tal como analisadores do laboratório, pesquisa científica, etc.   Princípio de operação de reguladores de pressão do gás da Ultrahigh-pureza: Os redutores de pressão do gás da pureza alta utilizam tipicamente uma válvula ajustável e um sensor da pressão. Quando o gás de alta pressão entra no redutor de pressão, a válvula ajusta automaticamente o interruptor para reduzir a pressão à pressão desejada da saída baseada no valor ajustado da pressão.   Os redutores de pressão do gás da pureza totais, altos são amplamente utilizados na fabricação do semicondutor, na ótica eletrónica, na indústria fotovoltaico, na nanotecnologia, na pesquisa do laboratório, e nas outras áreas onde os gás da pureza alta são exigidos. São usados para controlar a pressão de gás e para fluir para cumprir o processo específico e exigências experimentais.

Ate o equipamento do tratamento do gás pode segurar os gás usados em gravar processos dos processos e do depósito de vapor químico no semicondutor, no cristal líquido, e nas indústrias energéticas solares, incluindo SiH4, SiH2Cl2, PH3, B2H6, TEOS, H2, CO, NF3, SF6, C2F6, WF6, NH3, N2O, e assim por diante. Método de tratamento do gás de exaustão De acordo com as características do tratamento do gás de exaustão, o tratamento pode ser dividido em quatro tipos de tratamento: 1. Tipo de lavagem da água (tratamento de gás corrosivos) 2. Tipo de oxidação (tratando os gás combustíveis e tóxicos) 3. Adsorção (de acordo com o tipo de material da adsorção a tratar o gás de exaustão correspondente). tipo da combustão 4.Plasma (todos os tipos de gás de exaustão podem ser tratados). Cada tipo de tratamento tem suas próprias vantagens e desvantagens assim como seu espaço de aplicação. Quando o método de tratamento é lavagem da água, o equipamento é barato e simples, e pode somente segurar gás solúveis em água; a escala da aplicação do tipo de lavagem da água elétrica é mais alta do que aquela do tipo da lavagem da água, mas o custo de operação é alto; o tipo seco tem a boa eficiência do tratamento, e não é aplicável ao fluxo do gás que é fácil ser obstruído ou fluído. Os produtos químicos e seus subprodutos de uso geral na indústria do semicondutor podem ser categorizados de acordo com suas propriedades químicas e suas escalas diferentes: 1. Gás inflamáveis tais como SiH4H2, etc. 2. Gás tóxicos tais como AsH3, PH3, etc. 3. Gás corrosivos tais como o HF, o HCl, etc. 4. Gáses de estufa tais como CF4, NF3, etc. Desde os quatro gás acima seja prejudicial ao ambiente ou ao corpo humano, deve impedir sua emissão direta na atmosfera, assim que a planta geral do semicondutor é instalada com um grande sistema de tratamento centralizado de gás de exaustão, mas este sistema é somente exaustão de esfrega da água, assim que sua aplicação é limitada aos gás solúveis em água interurbanos, e não pode tratar a nunca-mudança e a divisão sutil do gás de exaustão do processo do semicondutor. Consequentemente, é necessário selecionar e combinar o equipamento correspondente do tratamento do gás de exaustão de acordo com as características do gás derivadas de cada processo a fim resolver o problema do gás de exaustão em uma maneira pequena. Enquanto a área de trabalho é na maior parte longe do sistema de tratamento central de gás de exaustão, frequentemente devido à ligação das características do gás à acumulação da cristalização ou da poeira no encanamento, tendo por resultado a obstrução do encanamento que conduz ao escapamento do gás, e em casos sérios, para causar mesmo uma explosão, não pode assegurar-se de que a segurança do trabalho do pessoal do local. Consequentemente, na necessidade da área de trabalho de configurar um equipamento pequeno do tratamento do gás de exaustão apropriado para as características do gás do processo, a fim reduzir o gás de exaustão estagnante na área de trabalho, para assegurar a segurança de pessoais.

Há uma grande variedade de gás encontrados dentro de um laboratório farmacêutico ou médico. Muitos não têm nenhum gosto, cor ou cheiro, que fazem difícil dizer se um escape do gás esta presente. Um escape do gás de um cilindro ou de um sistema de gás fixo da tubulação levanta um risco da série que possa causar um incidente ou um perigo potencialmente fatal dentro de um ambiente do laboratório.   A indústria farmacêutica é uma das indústrias as mais de crescimento rápido do mundo. A maioria do rendimento que de vendas gera é reinvestido então na área da investigação e desenvolvimento de produtos novos. A investigação e desenvolvimento usa uma vasta gama de gás e de equipamento da especialidade. Os instrumentos analíticos tais como cromatógrafos de gás, cromatógrafos líquidos e espectrómetros todos confiam no nível apropriado de entrega do gás para operar-se eficazmente.   Estes gás farmacêuticos e médicos são fabricados especificamente para a fabricação, e as indústrias médicas, farmacêuticas da biotecnologia. São usados frequentemente para sintetizar, para esterilizar, ou isole os processos ou os produtos que contribuem à saúde humana.   Os gás farmacêuticos são inalados igualmente por pacientes em uma técnica conhecida como a terapia do gás. Os gás usados para cuidados médicos humanos são controlados restritamente pela legislação e por padrões industriais para não danificar a fisiologia humana.   Os gás encontraram dentro de um laboratório Hélio O hélio (ele) é um gás muito claro, inodoro e insípido. É igualmente um dos 6 gás nobres (hélio, néon, argônio, crípton, xênon e rádon), assim chamado porque não reagem com outros elementos e não podem consequentemente se ligar com outros átomos para formar compostos complexos. Isto dá-lhe um perfil de segurança forte e um uso potencial em aplicações múltiplas. Devido a seu hélio unreactive do estado é usado frequentemente como um gás de portador nos laboratórios. O hélio tem muitos usos além do seu a maioria comum encher balões e seu papel dentro do setor farmacêutico e da biotecnologia é inestimável. É o mais amplamente utilizado no laboratório em refrigerar dos ímãs dentro das funções das máquinas porém é usado igualmente através de uma grande escala de incluir médico das áreas respiratório, da cardiologia, da radiologia e do cryology de MRI.   Argônio O argônio (AR) é igualmente um gás nobre com propriedades não-reativas. Além do que seu uso conhecido nas luzes de néon é usado igualmente às vezes nos setores médicos e da biotecnologia. É o gás inerte preferido para o uso dentro das linhas de Schlenk e as caixas de luva nos casos onde o nitrogênio pode reagir com os reagentes ou o instrumento e pode igualmente ser usos são o gás de portador na cromatografia de gás e na espectrometria maciça electrospray. Nos fármacos e na medicina pode-se igualmente usar-se em empacotar onde o nitrogênio pode opor e igualmente no cryosurgery e nos lasers usados para defeitos de solda e de correção vasculares do olho.   Nitrogênio Embora não um gás nobre como o nitrogênio do hélio ou do argônio (N) é igualmente de uso geral na indústria farmacêutica devido a é propriedades reativas relativamente non- em muitos processos e aplicações diferentes. Laboratórios primeiramente para controlar a atmosfera para o equipamento altamente sensível e os procedimentos. O gás do nitrogênio é aplicado para controlar níveis, umidade, e temperatura do oxigênio no equipamento de laboratório que inclui incubadoras da pilha, caixas secas, caixas de luva, e espectrómetros maciços.

1. O que intoxica o regulador de pressão do gás do VCR é apropriado para? Os reguladores de pressão do gás do VCR são apropriados para gás perigosos e ultra-altos da pureza.   2. Que são os gás perigosos para que o regulador de pressão do gás do VCR é apropriado? Os gás perigosos comuns e a informação relacionada são: Amônia (NH3): A amônia é um produto químico comum amplamente utilizado em adubos agrícolas, em líquidos refrigerantes, em agentes de limpeza e em processos industriais. Cloro (Cl2): O cloro é um produto químico de uso geral para a desinfecção, o descoramento, o tratamento da água e a fabricação de outros produtos químicos. Dióxido de carbono (CO2): O dióxido de carbono é um gás comum usado como um agente de carbonatação na indústria de alimento e de bebidas, assim como na soldadura, na luta contra o incêndio e em outras aplicações industriais. Cianureto de hidrogênio (HCN): O cianureto de hidrogênio é um gás altamente tóxico usado na metalurgia, na síntese orgânica e na fabricação do inseticida. Sulfureto de hidrogênio (H2S): O sulfureto de hidrogênio é um gás altamente fedorento e tóxico de uso geral na indústria de petróleo e gás e em outros processos industriais. Cloreto de hidrogênio (HCl): O cloreto de hidrogênio é um gás com um odor irritante e é de uso geral na fabricação de produtos químicos, de metais de limpeza, e de níveis de regulamento do pH. Nitrogênio (N2): O nitrogênio é um gás inerte de uso geral para proteger e ambientes inertes da reação, assim como para a retenção do gás e os testes de pressão. Oxigênio (O2): O oxigênio é um gás essencial de uso geral na indústria médica, no corte de gás, na soldadura e nos processos da combustão.   3. Características do regulador de pressão do gás do VCR? REGULAMENTO DA PRECISÃO ALTA: O regulador de pressão do gás do VCR utiliza um mecanismo regulamentar preciso que forneça o regulamento de pressão altamente exato do gás. Isto faz útil nas aplicações onde o controle exato do fluxo e da pressão do gás é exigido, como na pesquisa do laboratório, a fabricação da precisão e a análise de gás. Confiança e estabilidade: Projetado para o regulamento estável a longo prazo do gás, os reguladores de pressão do gás do VCR são capazes de fornecer o desempenho seguro sob condições operacionais de variação. São construídos tipicamente usando os materiais e a obra de alta qualidade para assegurar a operação segura durante longos período do tempo e para minimizar o risco de escapamento e de falha. Opções de conexão múltiplas: Os reguladores de pressão do gás do VCR estão tipicamente disponíveis com uma variedade de opções de conexão para acomodar o encanamento e as exigências do sistema de gás diferente. As opções de conexão comuns incluem o VCR metal-selaram os encaixes, conexões flangeadas, e conexões rosqueadas, fazendo a instalação e a integração do regulador flexível e fácil. Vasta gama de adjustability: Os reguladores de pressão do gás do VCR têm tipicamente uma vasta gama de adjustability para acomodar exigências diferentes da pressão. Se o regulamento de pressão alta ou baixa está exigido, fornecem a solução apropriada. Características da segurança: Os reguladores de pressão do gás do VCR são equipados frequentemente com uma variedade de características da segurança para assegurar a operação segura do sistema. Estas características podem incluir a proteção de sobrepressão, a proteção da sobrecarga, a proteção de temperatura excessiva e a detecção de escape para minimizar o risco de perigos potenciais e de acidentes. Adjustability: Os reguladores de pressão do gás do VCR são tipicamente ajustáveis, permitindo que o usuário ajuste e ajuste a pressão às necessidades específicas. Este adjustability faz o regulador apropriado para encenações da aplicação e exigências diferentes do processo.   4. O ambiente em que o regulador de pressão do gás do VCR é montado? Os reguladores de pressão do gás do VCR são montados em quartos desinfetados assegurar a limpeza e ajudá-la a manter a integridade e o desempenho do regulador de pressão do gás do VCR.   5. Como os reguladores de pressão do gás do VCR trabalham? Entrada do gás ao regulador: O gás entra no regulador de pressão do gás do VCR através de uma linha de conexão. A entrada é conectada geralmente a uma fonte do gás. Detecção da pressão: Dentro do regulador há um elemento de detecção da pressão, geralmente uma mola ou um diafragma. Porque o gás entra no regulador, o elemento de detecção da pressão é sujeitado à pressão de gás e gera uma força correspondente. Equilíbrio das forças: A força do elemento de detecção da pressão é equilibrada contra um mecanismo de regulamento dentro do regulador. Este mecanismo consiste geralmente em uma válvula e em um carretel de regulamento. Operação de válvula do regulamento: Segundo a força do elemento de detecção da pressão, a válvula de regulamento abrirá ou fechar-se-á em conformidade para ajustar a pressão do gás que corre através do sistema. Quando a força dos aumentos do elemento de detecção da pressão, a válvula de regulamento se fechar, diminuindo o fluxo do gás e assim abaixando a pressão de sistema. Inversamente, quando a força nas diminuições do elemento de detecção da pressão, a válvula de regulamento abrir, aumentando o fluxo do gás e levantando a pressão de sistema. Estabilização da pressão: Continuamente ajustando a abertura da válvula, o regulador de pressão do gás do VCR mantém uma pressão constante do gás que corre através do sistema. O regulador ajustará no tempo real como necessário assegurar-se de que a pressão de gás no sistema permaneça dentro de uma escala predeterminada.

Na fabricação do semicondutor, os gás fazem toda o trabalho e os lasers obtêm toda a atenção. Quando os lasers fizerem testes padrões do transistor gravura em àgua forte no silicone, gravura em àgua forte que primeiramente deposita o silicone e divide o laser para fazer circuitos completos é uma série de gás. Não é surpreendente que estes gás, que são usados para desenvolver os microprocessadores com um processo de vários estágios, são da pureza alta. Além do que esta limitação, muitos deles têm outros interesses e limitações. Alguns dos gás são criogênicos, outro são corrosivos, e ainda outro são altamente tóxicos.   Em resumo, estas limitações fazem a sistemas de distribuição de fabricação do gás para a indústria do semicondutor um desafio considerável. As especificações materiais estão exigindo. Além do que especificações materiais, uma disposição da distribuição do gás é uma disposição eletromecânica complexa de sistemas interconectados. Os ambientes em que são montados são complexos e sobrepor. A fabricação final ocorre no local como parte do processo de instalação. Ajudas de solda orbitais para cumprir as exigências altas da distribuição do gás da especificação ao fazer a fabricação nos ambientes apertados e desafiantes mais manejáveis.   Como os gás são usados na indústria do semicondutor   Antes de tentar planejar a fabricação de um sistema de distribuição do gás, é necessário compreender pelo menos os princípios da fabricação do semicondutor. Em seu núcleo, os semicondutores usam gás para depositar sólidos próximo-elementares em uma superfície em uma maneira altamente controlada. Estes sólidos depositados são alterados então introduzindo gás adicionais, lasers, etchants químicos, e o calor. As etapas no processo largo são:   Depósito: Este é o processo de criar a bolacha de silicone inicial. Os gás do precursor do silicone são bombeados em uma câmara do depósito de vácuo e formam bolachas de silicone finas com as interações químicas ou físicas.   Fotolitografia: A seção da foto refere lasers. No espectro ultravioleta extremo mais alto da litografia (EUV) usado para fazer as microplaquetas as mais altas da especificação, um laser de dióxido de carbono é usado para gravar os circuitos do microprocessador na bolacha.   Gravura a água-forte: Durante o processo de gravação com água-forte, o gás do halogênio-carbono é bombeado na câmara para ativar e dissolver materiais selecionados na carcaça de silicone. Este processo grava eficazmente os circuitos laser-impressos na carcaça.   Lubrificação: Esta é uma etapa adicional que mude a condutibilidade da superfície gravada para determinar as circunstâncias exatas sob que o semicondutor conduz.   Recozimento: Neste processo, as reações entre camadas da bolacha são provocadas pela pressão elevado e pela temperatura. Essencialmente, finaliza os resultados do processo precedente e cria o processador finalizado na bolacha.   Câmara e linha limpeza: Os gás usados nas etapas precedentes, especialmente gravando e lubrificando, são frequentemente altamente tóxicos e reativos. Consequentemente, a câmara do processo e as linhas de gás que alimentam a precisam de ser enchidas com os gás de neutralização para reduzir ou eliminar reações prejudiciais, e de ser enchidas então com os gás inertes para impedir a intrusão de todos os gás de contaminação do ambiente exterior.   Os sistemas de distribuição do gás na indústria do semicondutor são frequentemente complexos devido a muitos gás diferentes involvidos e ao controle apertado do fluxo, da temperatura e da pressão do gás que deve ser mantido ao longo do tempo. Isto é complicado mais pela pureza ultra-alta exigida para cada gás no processo. Os gás usados na etapa precedente devem ser lavados das linhas e das câmaras ou de outra maneira ser neutralizados antes que o passo seguinte do processo possa começar. Isto significa que há um grande número linhas especializadas, relações entre sistemas do tubo e mangueiras soldados, relações entre mangueiras e tubos e reguladores do gás e sensores, assim como relações entre todos os componentes e sistemas previamente mencionados das válvulas e da selagem projetados impedir que a contaminação do encanamento do abastecimento de gás natural esteja trocada para fora.   Além, o exterior da sala de limpeza e os gás da especialidade serão equipados com os sistemas de abastecimento de gás maiorias em ambientes da sala de limpeza e em áreas limitadas especializadas para abrandar todos os perigos no caso do escapamento acidental. Soldar estes sistemas de gás em um ambiente tão complexo não é nenhuma tarefa fácil. Contudo, com cuidado, a atenção ao detalhe e o equipamento direito, esta tarefa podem ser realizados com sucesso.   Sistemas de distribuição de fabricação do gás na indústria do semicondutor Os materiais usados em sistemas de distribuição do gás do semicondutor são altamente variáveis. Podem incluir coisas como as tubulações e mangueiras PTFE-alinhadas do metal para resistir gás altamente corrosivos. O material o mais comum usado para o encanamento de uso geral na indústria do semicondutor é 316L de aço inoxidável - uma variação de aço inoxidável do baixo carbono. Quando se trata de 316L contra 316, 316L é mais resistente à corrosão intergranular. Esta é uma consideração importante ao tratar uma escala dos gás altamente reativos e potencialmente temporários que podem corroer o carbono. Soldar as liberações 316L de aço inoxidável menos carbono precipita. Igualmente reduz o potencial para a erosão do limite de grão, que pode conduzir à corrosão de picada nas soldas e em zonas afetadas de calor.   Para reduzir a possibilidade de conduzir a corrosão que conduz à corrosão e à contaminação da linha de produtos, de aço inoxidável 316L soldado com o argônio puro que protege o gás e o gás do tungstênio protegeu os trilhos da solda é o padrão na indústria do semicondutor. O único processo de solda que fornece o controle necessário manter um ambiente da pureza alta na condução por meio de canos do processo. A soldadura orbital automatizada fornece somente o necessário controle de processos repetível para terminar a solda na fabricação de sistemas de distribuição do gás do semicondutor. O fato que encerrou as cabeças orbitais da solda pode acomodar aglomerada e os espaços difíceis em interseções complexas entre áreas de processo são uma vantagem significativa do processo. A tecnologia Co. de Shenzhen Wofei, Ltd, com mais de 10 anos de experiência na fonte de gás industriais e da especialidade, de materiais, de sistemas de abastecimento de gás e de engenharia do gás para o semicondutor, mercados do diodo emissor de luz, da GOLE, e do TFT LCD, nós podemos fornecê-lo os materiais necessários trazer seus produtos ao pelotão da frente da indústria. Nós não podemos somente fornecer uma vasta gama de válvulas e de encaixes para gás eletrônicos da especialidade do semicondutor, mas igualmente projetamos o encanamento de gás e a instalação de equipamento para nossos clientes.

a válvula de diafragma pneumática é um tipo de válvula que usa ar comprimido para atuar um diafragma flexível para controlar o fluxo dos líquidos ou dos gás. A válvula consiste em um corpo, em um diafragma, e em um atuador pneumático que controle o movimento do diafragma. O princípio de trabalho de válvula de diafragma pneumática: (1) suprimento de ar: O ar comprimido é fornecido ao atuador pneumático da válvula, que é conectada ao diafragma. movimento do diafragma (de 2): O atuador pneumático move o diafragma para cima ou para baixo, segundo o sentido do fluxo de ar. Este movimento abre ou fecha a válvula, permitindo ou restringindo o fluxo do líquido ou do gás através da válvula. sinal de controle (de 3): O atuador pneumático é controlado por um sinal de um controlador ou de um sistema de controlo externo, que regulem a quantidade de ar fornecida ao atuador e controlem assim a posição do diafragma. controle de fluxo (de 4): Ajustando a posição do diafragma, a válvula de diafragma pneumática pode controlar o fluxo do líquido ou do gás através da válvula. Quando o diafragma está na posição aberta, o líquido ou o gás correm através da válvula, e quando o diafragma está na posição fechado, do fluxo estão restringidos ou parados.   As válvulas de diafragma pneumáticas são de uso geral em uma variedade de aplicações, incluindo o processamento químico, os fármacos, o alimento e a bebida, e o tratamento da água, onde o controle de fluxo seguro e eficiente é crítico. São sabidos para suas confiança, durabilidade, e facilidade da manutenção.

A pressão é um dos parâmetros importantes na produção industrial. A medida e o controle corretos da pressão são uma relação importante para assegurar a boa operação do processo de produção e para realizar o rendimento de alta qualidade, alto, o baixo-consumo e a produção segura. Consequentemente, a detecção de pressão está obtendo cada vez mais a atenção. 1. que é o calibre de pressão elétrico do contato? O calibre de pressão elétrico do contato é um mais frequentemente dos calibres de pressão contactados pelos calibradores das bases devido a seus variedade, modelos completos e vasta gama de aplicações. O nível geral da precisão é 1.0-4.0, especialmente na medida e no controle das caldeiras, das embarcações de pressão ou dos encanamentos da pressão. O calibre de pressão é usado geralmente conjuntamente com os relés correspondentes, contatores e outros dispositivos elétricos para realizar o controlo automático do sistema medido da pressão e da finalidade do alarme do sinal. No curso do uso diário, os calibres de pressão terão vários problemas e os maus funcionamentos devido à vibração, o óleo, o desgaste e a corrosão, etc., que exigem a manutenção e a calibração oportunas.   Princípio de funcionamento de calibre de pressão elétrico do contato? O calibre de pressão elétrico do contato consiste em um calibre de pressão do tubo da mola equipado com um contato elétrico. Além do que a indicação no local, é usado igualmente para sinalizar a pressão que excede limites. O princípio de medida da pressão é baseado no tubo do sistema de medição na primavera sob a pressão do meio medido forçar a extremidade do tubo da mola para produzir a deformação elástica correspondente (deslocamento), através da engrenagem fixa no ponteiro será o valor medido da indicação no seletor; ao mesmo tempo, conduza o contato para produzir a ação correspondente (fechado ou aberta), de modo que o sistema de controlo da tensão no circuito de ligar/desligar, para conseguir a finalidade do alarme do controlo automático e das instruções no local.   3. Calibração do calibre de pressão elétrico do contato? O calibre de pressão elétrico do contato é realmente um interruptor do circuito operado pelo calibre de pressão. É apenas um calibre de pressão ordinário do tubo da mola, adaptado com dispositivo elétrico da sinalização do contato. A calibração da parte pressurizada é a mesma que aquela do calibre de pressão ordinário. A diferença com o outro calibre de pressão é a reação após a conexão. Quando o olhar de verificação, primeiro na precisão de sua pressão, e olhar então a sensibilidade de sua reação da conexão. Consequentemente, a verificação é dividida em duas etapas: (1) parte pressurizada do valor de uso geral da calibração do calibre de pressão; (2) a parte elétrica, depois que a calibração do valor da demonstração é qualificada, o dispositivo elétrico da sinalização do contato deve ser calibrada sob a pressão e seu desempenho da conexão deve ser verificado com um multímetro.   4. Calibração da peça pressurizada do calibre de pressão elétrico do contato? O método da comparação é um método comum para calibrar o calibre de pressão. O calibre de pressão padrão e o calibre de pressão medido são instalados no mesmo nível do calibre de pressão do pistão ou do calibrador da pressão. Depois que o pistão é enchido com o líquido de funcionamento (óleo do transformador) e o ar interno é descarregado, a válvula de agulha no copo de óleo é fechada para formar um sistema fechado; a pressão do líquido de trabalho expulso pode ser mudada girando o volante no pistão do tipo calibre ou calibrador do pistão de pressão. Movimentação hidráulica do líquido de trabalho, de modo que o mesmo nível de calibre de pressão padrão e do calibre de pressão a ser sincronização medida da pressão e mudanças iguais; o calibre de pressão padrão e o calibre de pressão a ser medido para comparar o valor indicado.  

O processo de produção de gás eletrônicos da especialidade inclui diversos processos tais como a síntese, a purificação, o enchimento, a análise e o teste, a mistura e proporcionar. A fim cumprir as exigências de fabricação do semicondutor a jusante para o índice da pureza e de impureza, o processo da purificação é muito importante. Segundo a composição do gás de síntese ascendente ou do gás cru, a destilação da baixa temperatura ou a purificação de vários estágios são executadas.   Exigências altas da limpeza O processo da preparação de gás especiais eletrônicos pode ser dividido em dois blocos principais de preparação e de purificação ascendentes da síntese, que pertence ao processo de produção químico. O tamanho do encanamento da produção é grande, e não há nenhuma exigência especial do nível de limpeza. Após a purificação a jusante, o produto é enchido com o gás e misturado para a preparação. O encanamento da produção é pequeno e tem exigências do nível de limpeza. Precisa de encontrar a especificação padrão do processo de manufatura do semicondutor. Exigências de selagem altas Devido a sua atividade química, os gás eletrônicos da especialidade igualmente colocam altas demanda nos materiais e selagem do sistema do processo de produção. Apenas como as exigências da fabricação do semicondutor, impede o escapamento da relação causado pela introdução de impurezas ou pela corrosão de gás especiais. O sistema pode igualmente ser usado para impedir a introdução de impurezas ou o escapamento da relação causado pela corrosão de gás especiais.   Exigências de alta qualidade da estabilidade A qualidade de gás eletrônicos da especialidade inclui um número de indicadores tais como o índice da partícula da pureza e da impureza. Toda a mudança nos indicadores afetará os resultados do processo de manufatura a jusante do semicondutor. Consequentemente, a fim assegurar a consistência dos indicadores especiais eletrônicos do produto do gás, o sistema do processo da preparação para controlar a estabilidade dos indicadores é igualmente muito importante.     Devido às exigências químicas do EGP, o sistema de produção para a preparação do EGP, especialmente o sistema a jusante da atividade e de qualidade da purificação, deve cumprir as exigências de materiais da pureza alta, da selagem alta, da limpeza alta e da consistência de alta qualidade, e a construção de componentes projetados deve encontrar os padrões da indústria de transformação do semicondutor. O que nós referimos geralmente como “a pureza alta” é teoricamente a definição da pureza de uma substância, tal como gás da pureza alta, produtos químicos da pureza alta, sistemas do processo etc. ou os componentes de sistema do processo que são aplicados às substâncias da alto-pureza são referidos igualmente como a alto-pureza, tal como sistemas da alto-pureza e válvulas da alto-pureza. Os sistemas eletrônicos da preparação do gás da especialidade exigem os encaixes da aplicação da pureza alta, as válvulas, e outros componentes fluidos, isto é, os encaixes e as válvulas que são processados com materiais da pureza alta e processos de manufatura limpos, e são estruturados para a remoção e a limpeza fáceis. Com desempenho de selagem alto. Estes componentes fluidos são projetados encontrar o trajeto do fluxo de processo da aplicação, usando as exigências da engenharia e da construção da indústria do semicondutor.   Conexões de encanamento da pureza alta As conexões do selo de cara da gaxeta do metal do VCR e as conexões automáticas da solda de extremidade do guia são amplamente utilizadas nas exigências fluidas de exigência do processo da pureza do sistema devido à capacidade para encontrar a transição suave do trajeto do fluxo na conexão, nenhuma zona da estagnação, e as conexões altas da selagem performance.VCR formam um selo de superfície estreito expulsando uma gaxeta relativamente macia do metal. O desempenho repetível e consistente da conexão e da selagem é assegurado cada vez que a gaxeta deformada é removida e substituída.   Os tubos são soldados usando um sistema de solda orbital automático. O tubo é protegido pelo gás da pureza alta por dentro e por fora. O elétrodo do tungstênio gerencie ao longo da órbita para a soldadura de alta qualidade. A soldadura orbital inteiramente automatizada derrete a tubulação sem introduzir outros materiais, conseguindo uma solda de alta qualidade repetidamente controlando a tubulação fino-murada é difícil de conseguir com soldadura manual.   Conexão do selo de cara da gaxeta do metal do VCR   Conexão orbital automática da soldadura de extremidade das tubulações   Válvulas da pureza alta A atividade química de altas demanda eletrônicas inflamáveis, explosivas, corrosivas, e tóxicas dos lugares dos gás da especialidade na selagem da válvula. A fim melhorar a confiança de selagem, a exigência de válvulas packingless impedir o escapamento externo, isto é, operação de comutação da haste de válvula e o corpo de válvula entre o selo que usa foles do metal ou diafragma do metal, a fim eliminar o escapamento devido à abrasão e à deformação do selo de embalagem. as válvulas Fole-seladas e diafragma-seladas são de uso geral em sistemas do processo para aplicações da alto-pureza devido à confiança maior dos selos e da limpeza e da substituição mais fáceis da remoção dos internals da válvula.   as válvulas Fole-seladas são uma construção packingless da válvula de agulha que permita o regulamento lento da abertura e do fluxo. Usado para o gás eletrônico da especialidade que enche-se com as exigências do fluxo da segurança ou em garrafas da fonte do precursor com as exigências de segurança altas. Os selos inteiramente metálicos da ponta da haste permitem extremamente - baixas temperaturas de funcionamento e são usados para a liquefação criogênica de gás eletrônicos da especialidade nos tanques do produto acabado após a destilação criogênica para conduzir.   A válvula Springless do selo do diafragma é um 1/4" válvula pressão-aberta para o uso como uma válvula de comutação automaticamente controlada no encanamento da entrega. São de uso geral na ultra-alto-pressão, nas aplicações da alto-pureza devido a seu trajeto simples do fluxo interno, no volume interno pequeno, e na facilidade da remoção e da substituição.   as válvulas Diafragma-seladas que se fecham através da ponta da haste podem abrir lentamente e ser usadas em umas pressões de funcionamento mais altas do que válvulas diafragma-seladas não-saltadas. São amplamente utilizados em garrafas eletrônicas de alta pressão da fonte do enchimento ou do precursor do gás da especialidade.   O selo secundário grita a válvula não pode somente ser usado em ultra-baixos sistemas do processo da temperatura em -200 graus, mas igualmente impede o escapamento de meios perigosos na atmosfera. Usado geralmente para gás especiais eletrônicos muito perigosos, tais como o sistema de enchimento do silane.   A tecnologia Co. de Shenzhen Wofei, Ltd, com mais de 10 anos de experiência na fonte dos gás industriais e da especialidade, dos materiais, dos sistemas de abastecimento de gás e da engenharia para o semicondutor, diodo emissor de luz do gás, GOLE, mercados de TFT LCD, nós podemos fornecê-lo os materiais necessários para empurrar seus produtos para o pelotão da frente da indústria. Nós não podemos somente fornecer uma vasta gama de válvulas e de encaixes para gás eletrônicos da especialidade do semicondutor, mas nós podemos igualmente projetar o encanamento de gás e a instalação de equipamento para nossos clientes. Se você tem quaisquer necessidades nesta área, contacte-nos por favor em 0927023443.  

Os gás da especialidade são considerados frequentemente a seiva da indústria eletrónica e o coração da fabricação do semicondutor. O mercado global dos gás da especialidade é usado em quatro aplicações chaves no processo de manufatura da microplaqueta do semicondutor e relacionado diretamente à disponibilidade e ao potencial das tecnologias que nós nos usamos hoje. Contudo, o uso do gás é inevitavelmente a necessidade para acessórios e equipamento relacionados para mais ulterior transformação a fim a ser usada bem; consequentemente, a tecnologia como um porteiro do gasoduto, que de Shenzhen Wofly fosse claramente o campo de batalha principal da tecnologia de Wofly, varrendo os projetos incontáveis domésticos do laboratório foi muito madura, como empresas de Huawei Fortune 500, mas igualmente cooperou com o projeto do semicondutor precisa de fornecer serviços ou produtos. Para o semicondutor o projeto precisa de proporcionar serviços ou a tecnologia de Wofly dos produtos é igualmente a ajuda que a mais grande pode fornecer, certificados especiais do gás da tecnologia de Wofly, assim como investigação e desenvolvimento do GC especial do equipamento do gás (armário especial do gás), (cremalheira especial do gás) GR, (caixa de válvula) VMB, (placa da válvula) VMP; o gás que mistura e que proporciona o dispositivo tem um armário proporcional inteiramente automatizado do misturado-gás, armário proporcional do misturado-gás horizontal, os dois elementos do gás que mistura e que proporciona o dispositivo, gás multi-distante que mistura e que proporciona o dispositivo, e assim por diante. Todo o estes podem fornecer a grande ajuda para a indústria do semicondutor. A tecnologia de Wolfly para vender produtos é combinada com o gás, podem ser equipados com um conjunto completo de equipamento do abastecimento de gás, apesar de tudo, a engenharia é sua vantagem, nesta do que muitas empresas a ser muito melhores, compreende-se que uma grande parte da empresa deve comprar somente produtos, tecnologia de Wolfly ambos os produtos, e a engenharia e nesta estrada tem andado por 12 anos, pode ser dita ser uma riqueza da experiência. Embora, a tecnologia de Wolfly não seja contada agora como uma das empresas, mas no país ou em uma reputação pequena, eu acredito que isso de um dia no futuro nesta indústria seja um sucesso internacional pequeno, apesar de tudo, a qualidade do produto pode provar tudo.

Na fabricação do semicondutor, os gás fazem toda o trabalho e os lasers obtêm toda a atenção. Quando os lasers fizerem testes padrões do transistor gravura em àgua forte no silicone, gravura em àgua forte que primeiramente deposita o silicone e divide o laser para fazer circuitos completos é uma série de gás. Não é surpreendente que estes gás, que são usados para desenvolver os microprocessadores com um processo de vários estágios, são da pureza alta. Além do que esta limitação, muitos deles têm outros interesses e limitações. Alguns dos gás são criogênicos, outro são corrosivos, e ainda outro são altamente tóxicos. Em resumo, estas limitações fazem a sistemas de distribuição de fabricação do gás para a indústria do semicondutor um desafio considerável. As especificações materiais estão exigindo. Além do que especificações materiais, uma disposição da distribuição do gás é uma disposição eletromecânica complexa de sistemas interconectados. Os ambientes em que são montados são complexos e sobrepor. A fabricação final ocorre no local como parte do processo de instalação. Ajudas de solda orbitais para encontrar as especificações altas de exigências da distribuição do gás ao fazer a fabricação nos ambientes apertados, desafiantes mais manejáveis.   Como a indústria do semicondutor usa gás Antes de tentar planejar a fabricação de um sistema de distribuição do gás, é necessário compreender pelo menos os princípios da fabricação do semicondutor. Em seu núcleo, os semicondutores usam gás para depositar sólidos próximo-elementares em uma superfície em uma maneira altamente controlada. Estes sólidos depositados são alterados então introduzindo gás adicionais, lasers, etchants químicos, e o calor. As etapas no processo largo são: Depósito: Este é o processo de criar a bolacha de silicone inicial. Os gás do precursor do silicone são bombeados em uma câmara do depósito de vácuo e formam bolachas de silicone finas com as interações químicas ou físicas. Fotolitografia: A seção da foto refere lasers. No espectro ultravioleta extremo mais alto da litografia (EUV) usado para fazer as microplaquetas as mais altas da especificação, um laser de dióxido de carbono é usado para gravar os circuitos do microprocessador na bolacha. Gravura a água-forte: Durante o processo de gravação com água-forte, o gás do halogênio-carbono é bombeado na câmara para ativar e dissolver materiais selecionados na carcaça de silicone. Este processo grava eficazmente os circuitos laser-impressos na carcaça. Lubrificação: Esta é uma etapa adicional que mude a condutibilidade da superfície gravada para determinar as circunstâncias exatas sob que o semicondutor conduz. Recozimento: Neste processo, as reações entre camadas da bolacha são provocadas pela pressão elevado e pela temperatura. Essencialmente, finaliza os resultados do processo precedente e cria o processador finalizado na bolacha. Câmara e linha limpeza: Os gás usados nas etapas precedentes, especialmente gravando e lubrificando, são frequentemente altamente tóxicos e reativos. Consequentemente, a câmara do processo e as linhas de gás que alimentam a precisam de ser enchidas com os gás de neutralização para reduzir ou eliminar reações prejudiciais, e de ser enchidas então com os gás inertes para impedir a intrusão de todos os gás de contaminação do ambiente exterior. Os sistemas de distribuição do gás na indústria do semicondutor são frequentemente complexos devido a muitos gás diferentes involvidos e ao controle apertado do fluxo, da temperatura e da pressão do gás que deve ser mantido ao longo do tempo. Isto é complicado mais pela pureza ultra-alta exigida para cada gás no processo. Os gás usados na etapa precedente devem ser lavados das linhas e das câmaras ou de outra maneira ser neutralizados antes que o passo seguinte do processo possa começar. Isto significa que há um grande número linhas especializadas, relações entre o sistema soldado do tubo e as mangueiras, relações entre as mangueiras e os tubos e os reguladores do gás e sensores, e relações entre todos os componentes previamente mencionados e os sistemas de válvulas e de selagem projetados impedir que a contaminação do encanamento do abastecimento de gás natural esteja trocada para fora. Além, os exteriores da sala de limpeza e os gás da especialidade serão equipados com os sistemas de abastecimento de gás maiorias em ambientes da sala de limpeza e em áreas limitadas especializadas para abrandar todos os perigos no caso do escapamento acidental. Soldar estes sistemas de gás em um ambiente tão complexo não é nenhuma tarefa fácil. Contudo, com cuidado, a atenção ao detalhe e o equipamento direito, esta tarefa podem ser realizados com sucesso.   Sistemas de distribuição de fabricação do gás na indústria do semicondutor Os materiais usados em sistemas de distribuição do gás do semicondutor são altamente variáveis. Podem incluir coisas como as tubulações e mangueiras PTFE-alinhadas do metal para resistir gás altamente corrosivos. O material o mais comum usado para o encanamento de uso geral na indústria do semicondutor é 316L de aço inoxidável - uma variação de aço inoxidável do baixo carbono. Quando se trata de 316L contra 316, 316L é mais resistente à corrosão intergranular. Esta é uma consideração importante ao tratar uma escala dos gás altamente reativos e potencialmente temporários que podem corroer o carbono. Soldar as liberações 316L de aço inoxidável menos carbono precipita. Igualmente reduz o potencial para a erosão do limite de grão, que pode conduzir à corrosão de picada nas soldas e em zonas afetadas de calor. Para reduzir a possibilidade de conduzir a corrosão que conduz à corrosão e à contaminação da linha de produtos, de aço inoxidável 316L soldado com o argônio puro que protege o gás e o gás do tungstênio protegeu os trilhos da solda é o padrão na indústria do semicondutor. O único processo de solda que fornece o controle necessário manter um ambiente da pureza alta na condução por meio de canos do processo. A soldadura orbital automatizada está somente disponível na distribuição do gás do semicondutor

Devido a sua natureza inerte, o nitrogênio gasoso pode ser usado em uma variedade de remoção, coberta e operações de nivelamento. Segundo o tipo de processo envolvido, os níveis diferentes de pureza do nitrogênio são exigidos para encontrar necessidades de fabricação originais.   Que é pureza do nitrogênio?   A pureza do nitrogênio é a porcentagem do presente do nitrogênio em uma amostra tomada de seu córrego comparado às impurezas apresenta. O nitrogênio pode ser classificado como a pureza alta ou baixa baseada na relação do gás puro aos contaminadores tais como o oxigênio, o vapor de água, o monóxido de carbono e o dióxido de carbono.   Esta classificação baseada na concentração do nitrogênio joga um papel chave em determinar a conformidade do nitrogênio para todo o processo industrial.   Pureza alta contra o baixo nitrogênio da pureza   A pureza de uma amostra do nitrogênio é determinada pela porcentagem/concentração de nitrogênio puro nela. Para que um gás seja categorizado como a pureza alta, deve conter pelo menos o nitrogênio 99,998%, visto que um mais baixo nitrogênio da pureza contém tipicamente uma porcentagem mais alta das impurezas. Nitrogênio da pureza alta   O nitrogênio gasoso com uma concentração acima de 99,998% é considerado uma fração da pureza alta. O nitrogênio da pureza alta pode ser classificado em maneiras diferentes por fabricantes diferentes, mas são considerados na maior parte “frações da categoria zero”. o nitrogênio da alto-pureza da Zero-categoria é categorizado como esta'n porque contêm impurezas do hidrocarboneto de menos de 0,5 porções por milhão.   Outras características chaves do nitrogênio da pureza alta são:   ≤ da concentração de oxigênio 0,5 ppm   Monóxido de carbono/dióxido de carbono não mais de 1,0 ppm   Umidade de 3 ppm não maior   Baixo nitrogênio da pureza   O nitrogênio com uma pureza de 90% a levemente menos de 99,9% é considerado baixa pureza.   Classificação da pureza do nitrogênio   A classificação do nitrogênio puro é realizada através de um sistema de classificação usando números dentro de cada mais baixa categoria da pureza. O primeiro número de cada categoria refere o número de “nines” que aparecem dentro dele, quando o segundo número representar o número após os últimos nove dígitos.   As categorias da pureza de nitrogênio são categorizadas como N2.0, N3.0, N4.0, N5.0, N6.0, e N7.0.   Que é nitrogênio ultra-alto da pureza?   o nitrogênio da Ultrahigh-pureza é nitrogênio com uma concentração de 99,999% e impurezas insignificantes. As especificações do nitrogênio são estritas e as variações invalidam a classificação.   O gás não deve conter mais de duas porções por milhão pelo volume (ppmv) de oxigênio, 0,5 porções por milhão pelo volume de hidrocarbonetos totais, e de uma parte por milhão pelo volume de umidade). O nitrogênio é de uso geral para aplicações científicas.   Que é nitrogênio oxigênio-livre?   O nitrogênio livre do oxigênio (OFN) é definido como o nitrogênio gasoso que contém não mais de 0,5 porções por milhão (ppm) do oxigênio. Os gás dos OFN são mantidos tipicamente na pureza 99,998%. Esta categoria de nitrogênio é usada nos processos da pesquisa científica e da calibração onde as impurezas do oxigênio podem alterar resultados ou causar resultados incorretos. Níveis da pureza do nitrogênio pela indústria/aplicação   Como mencionado acima, a concentração de nitrogênio exigida para processos industriais diferentes varia extremamente. A consideração chave em selecionar uma categoria do nitrogênio é o efeito das impurezas na aplicação escolhida. A sensibilidade à umidade, o oxigênio e outros contaminadores são fatoras chaves a considerar.   Nitrogênio da categoria do nitrogênio/bebida do produto comestível   O nitrogênio é de uso geral em etapas diferentes do alimento/da produção, do empacotamento e armazenamento da bebida. O nitrogênio no empacotamento de alimento e no processamento é usado para manter a vida útil de alimentos/bebidas processados eliminando oxidante do alimento, preservando o sabor e impedindo o ranço. A pureza exigida para o nitrogênio do produto comestível está tipicamente na escala de 98-99.5%.   Nitrogênio farmacêutico da categoria   Os processos de manufatura farmacêuticos exigem a pureza alta impedir a contaminação e a alteração do produto final. Muitos fármacos exigem o nitrogênio do nível superior com purezas entre 97-99.99%. Esta elevação ao nitrogênio ultra-alto da pureza é usada para cobrir os tanques do nitrogênio, os recipientes e o outro equipamento de fabricação da droga.   O nitrogênio da pureza alta é usado igualmente no empacotamento farmacêutico para ajudar a manter o frescor e impedir a deterioração de ingredientes ativos.   O nitrogênio gasoso com pureza 95-99% é usado na indústria de petróleo e gás para reduzir o risco de fogo e de explosão durante o processo. Tanques de armazenamento da neutralisação e encanamentos químicos da remoção com ajudas gasosas do nitrogênio para minimizar o risco de combustão repentina de seus índices.   Os serviços de manutenção do encanamento usam frequentemente o nitrogênio pressurizado para a limpeza do encanamento e o encanamento que desarma processos.   Pureza industrial da categoria do nitrogênio   Algumas aplicações industriais e suas exigências da categoria do nitrogênio são esboçadas abaixo.   Eletrônica e nitrogênio da categoria da fabricação do semicondutor   As exigências satisfeitas do nitrogênio típico na eletrônica e na fabricação do semicondutor são geralmente pelo menos 99.99-99.999%. Alguns processos tais como as peças que limpam e a cobertura adesiva usam umas mais baixas concentrações do nitrogênio (95-99.5%).   Plásticos que fabricam o nitrogênio da categoria   As exigências da categoria do nitrogênio para a síntese dos plásticos são 95-98% para a modelação por injeção, 99,5% para a modelação por injeção gás-ajudada, e 98-99.5% para extrusão fundida do filme.   Metal que processa o nitrogênio da categoria   O índice do nitrogênio do metal que processa a categoria varia extremamente, de 95-99% para o tratamento térmico a 99-99.999% para o processo do corte do laser.   Nitrogênio da categoria da produção de eletricidade   O nitrogênio na escala 95-99.6% é exigido para processos da produção de eletricidade tais como a purgação do selo de ar, o forro da caldeira, a purgação natural do gasoduto e a folha de prova do amaciamento de água.